Publication
Electron velocity of 6 × 107 cm/s at 300 K in stress engineered InAlN/GaN nano-channel high-electron-mobility transistors
S. Arulkumaran, S. Arulkumaran, S. Arulkumaran, G. I. Ng, G. I. Ng, G. I. Ng, C. M. Manoj Kumar, C. M. Manoj Kumar, C. M. Manoj Kumar, K. Ranjan, K. Ranjan, K. Ranjan, K. L. Teo, K. L. Teo, K. L. Teo, O. F. Shoron, O. F. Shoron, O. F. Shoron, S. Rajan, S. Rajan, S. Rajan, S. Bin Dolmanan, S. Bin Dolmanan, S. Bin Dolmanan, S. Tripathy, S. Tripathy, S. Tripathy
Applied Physics Letters, February 2015, American Institute of Physics
DOI: 10.1063/1.4906970